电镀镍企业生产废水含络合镍深度去除的工艺流程与药剂

对于电镀镍企业排放的含络合镍废水，常规沉淀法无法有效去除，需采用**“破络+深度去除”组合工艺，才能稳定达到《电镀污染物排放标准》(GB 21900-2008)表3要求（Ni≤0.1 mg/L）。以下为推荐的全流程工艺与配套药剂**：

✅ 一、推荐工艺流程（“破络-沉淀-深度”三段式）

表格

复制

单元工艺细节作用

①预处理	格栅→调节池均质→砂滤→活性炭过滤	去除悬浮物、部分有机物，保护后续系统
②破络单元	Fenton氧化（H₂O₂+FeSO₄）	破坏络合剂（EDTA、柠檬酸、氨等），释放游离Ni²⁺
③一次沉淀	加碱调pH至10.5~11.0，投加PAC+PAM	初步沉淀Ni(OH)₂，去除80%以上镍
④深度处理	专用螯合剂沉淀（HMC-M2、M100）	将残余镍浓度降至<0.1 mg/L
⑤保安过滤	多介质过滤器→5 μm保安过滤器	去除细小悬浮物，防止树脂/膜污染
⑥消毒回用	次消毒→回用或排放	满足回用水质要求

✅ 二、关键药剂清单

表格

复制

功能药剂名称投加量/条件备注

破络氧化	30% H₂O₂	2~5 L/m³	pH 3~4，ORP 250~300 mV
	FeSO₄·7H₂O	2~5 kg/m³	与H₂O₂摩尔比1:10左右
沉淀剂	NaOH或Ca(OH)₂	调pH至10.5~11	形成Ni(OH)₂沉淀
絮凝剂	PAC	100-200 mg/L	快速混凝
	PAM（阴离子）	1-3 mg/L	助凝沉降
深度去除	螯合剂HMC-M2	10-20倍Ni质量	与残余络合镍直接反应，pH 2-12
	CH-90Na树脂	空床流速10-15 m/h	饱和容量~50 g Ni/L树脂

✅ 三、工艺运行控制要点

表格

复制

控制点建议值说明

破络pH	3.0-4.0	低于3.5时Fenton效率最高
反应时间	1-2 h	确保有机络合剂充分断裂
沉淀pH	10.5-11.0	过高会导致氢氧化镍复溶
螯合剂投加	按Ni残留量计	过量投加可提高去除率，但增加成本
树脂再生	5% HCl + 5% NaOH	CH-90Na树脂可循环使用50次以上

✅ 四、典型案例参考（广东电镀园区）

废水特征：Ni 50-150 mg/L，含EDTA、柠檬酸、氨水，COD 200-350 mg/L

采用工艺：Fenton破络→碱沉淀→螯合沉淀→多介质过滤

运行结果：

出水Ni 0.05-0.08 mg/L

镍去除率≥99.5%

运行成本≈8.5元/吨水

✅ 五、方案选型建议

表格

复制

镍浓度范围推荐组合备注

Ni 10-50 mg/L	破络+沉淀+螯合剂	投资低，操作简便
Ni 50-150 mg/L	破络+沉淀+树脂	出水更稳定，可回用
Ni >150 mg/L	增设电解回收	先回收再深度处理

如需树脂塔设计参数或现场中试方案，请提供实际水质（Ni浓度、COD、pH及水量），可进一步细化工艺配置。